大型CVD炉为大型立式化学气相沉积炉。大型CVD炉装料方式有上装料、底装料、卧式三种装料方式。多通道沉积气路，流场均匀，无沉积死角，沉积效果好。能精密控制MTS的流量和压力，炉膛内沉积气流稳定，压力波动范围小。

设备用途：

大型CVD炉用做石墨或碳碳表面的碳化硅涂层、碳碳复合涂层。真空气相沉积炉适用于化学气相沉积法制备碳-碳复合材料， 也可用于以碳氢气体（如C3H8等）为碳源的材料表面或基体等温CVD/CVI处理，或以三氯甲硅烷（MTS）为气源的材材料料表面抗氧化涂层、基体改性等。

用途广泛?如：

碳碳复合涂层：光伏晶体炉的热场材料

石墨涂层：LED蓝宝石衬底MOCVD的石墨托盘

设备特点：

1、立式结构，炉壳用耐腐蚀材料制成。

2、独特的内罩进排气结构，热场温度均匀性好。

3、气氛控制精确，真空系统配有过滤器，可选配尾气处理系统。

4、主要电器元件采用施耐德及欧姆龙品牌，性能稳定、可靠。

5、配备出、装料料车，方便操作及出装料，提高工作效率。

1500℃CVD常规规格主要技术参数：

炉膛尺寸可按要求定做

1500℃CVD常规规格主要技术参数：

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